什么是低纳米光刻机(光刻纳米研制曝光)

发布日期:2024-06-09 13:26:56     手机:https://m.xinb2b.cn/wenda/news333023.html    违规举报
核心提示:光刻机(MaskAligner)又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻,所以叫MaskAlignmentSystem。低纳米光刻机,是分辨率较高,精确到纳米的光刻机。2018年11月29日,国家重大科研装备研

什么是低纳米光刻机

光刻机(MaskAligner)又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻,所以叫MaskAlignmentSystem。

低纳米光刻机,是分辨率较高,精确到纳米的光刻机。

2018年11月29日,国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收。该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制,光刻分辨力达到22纳米,结合双重曝光技术后,未来还可用于制造10纳米级别的芯片。

 
 
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